目前,455nm 10W 及 20W 雷射模組用 40mm 的焦距方案,而 1064nm 2W 雷射模組採用 20mm 的焦距方案。兩種雷射模組的焦深如下圖所示:
焦深指的是材料加工的有效距離範圍,即材料只要處於這個距離範圍內便能夠成功加工。455nm 雷射模組的焦深是 4~6mm,而 1064nm 雷射模組的焦深只有 1mm,這就意味著對焦距設定的要求會比較高,需要非常精確地設置,對焦稍有偏差便可能導致雕刻效果變差。
檢查以下問題:
(1)移動雷射模組到待雕刻材料上方。
(2)放下對焦杆。
(3)逆時針旋轉雷射模組左側的扳手螺絲鬆開雷射模組。
(4)緩慢上下移動雷射模組,使對焦杆底部清楚材料表面。切勿讓雷射模組自由落體掉下來,以免損害雷射模組和材料。
(5)順時針旋轉扳手螺絲固定雷射模組。
排查雷射模組支架是否鬆動
如果你發現以上都沒有問題,但是雕刻效果並不好,有可能是Z軸底板鬆動,導致雷射模組往前傾斜,對焦杆失效。
拆下雷射模組,雙指按如圖方式捏住射模組支架,按箭頭方案前後晃動,如發現支架鬆動,則說明需要重新調節支架的鬆緊程度。